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沿革

沿革
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1928年  コバレントマテリアル(株)(旧東芝セラミックス(株))発足
1977年  (株)東芝からシリコンウェーハ事業を移管
1982年  徳山工場発足(旧徳山セラミックス(株))
1983年  エピタキシャルウェーハ生産開始(旧徳山セラミックス(株))
1985年  関川工場発足 (旧関川電子(株))
1986年  拡散ウェーハ生産開始(旧関川電子(株))
1991年  当社設立(旧新潟東芝セラミックス(株))
1993年  150mmウェーハ生産開始
1995年  200mmウェーハ生産開始
2001年  300mmウェーハ生産開始
2011年  コバレントマテリアルのシリコンウェーハ事業を当社に集約
2012年  Sino-American Silicon Products Inc.グループに株式譲渡
2013年  社名をグローバルウェーハズ・ジャパン株式会社に変更

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