GlobalWafers

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沿革

1928年 コバレントマテリアル(株)(旧東芝セラミックス(株))発足
1977年 (株)東芝からシリコンウェーハ事業を移管
1982年 徳山工場発足(旧徳山セラミックス(株))
1983年 エピタキシャルウェーハ生産開始(旧徳山セラミックス(株))
1985年 関川工場発足 (旧関川電子(株))
1986年 拡散ウェーハ生産開始(旧関川電子(株))
1991年 当社設立(旧新潟東芝セラミックス(株))
1993年 150mmウェーハ生産開始
1995年 200mmウェーハ生産開始
2001年 300mmウェーハ生産開始
2011年 コバレントマテリアルのシリコンウェーハ事業を当社に集約
2012年 Sino-American Silicon Products Inc.グループに株式譲渡
2013年 社名をグローバルウェーハズ・ジャパン株式会社に変更

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